產品說明功率繼電器FUJI，TR-N3/3
膠片可能有一個輕微的密度，而不暴露在可見光，
X射線或伽馬射線.這種密度是在膜的乳劑中的鹵化銀部分還原成c時產生的。
全是霧。由于過一定限度的霧會對攝影圖像產生有害影響，
因此必須盡可能地抑制它。霧有許多原因，包括膠片儲存條件。
條件、開發人員的組成、開發條件和處理條件。
由光和壓力引起的可下垂密度也稱為霧。
e引起的不需要的密度暴露在安全光線下
(即使一種不影響敏感物質的淺色在合理的時間
范圍內作為安全光)被稱為安全光霧。
黃牛當高壓作用在薄膜上時產生的密度稱為壓力霧。
所有這些由不理想的外部因素產生的霧都會對
光子晶體產生不利的影響。因此，必須始終防止圖像。
清晰度或銳度是用來表示不同密度之間的界限和
圖像中精細細節的清晰性的攝影術語。
*近利用空間頻率特性來表示圖像的清晰度。
空間頻率的概念來源于電子測量系統。
電子學例如，通過繪制我們所稱的頻率響應曲線來表示揚聲器的特性。
計算輸入與輸出（稱為響應）的放大器比率每個變化的聲音頻率的ED，
頻率被放置在水平軸和響應沿垂直軸。
因此，可以使用如圖16所示的頻率響應曲線。獲得。
如果低音調聲音的再現性差，那么在低頻范圍內的響應是小的，
如果高音調的聲音不能忠實地再現，則在高頻率范圍內的響應是小的。
貨幣范圍很小。這一頻率響應曲線是非常有用的評估質量的再現聲音。
另一方面，在攝影中，頻率響應曲線是用pl繪制的。
根據輸入-輸出比，將每mm的黑白線的數量
（這稱為音頻頻率類推之后的空間頻率），
即再現的IM的響應以可見光或放射線為輸入的年齡。
該曲線在攝影中被稱為響應函數或調制傳遞函數。
顯影后產生的照相圖像由直徑幾微米的銀粒子組成，
其直徑不規則地分布。這就是為什么拉多圖通常具有粒狀外觀的原因，
用肉眼觀察。這種外表被稱為顆粒。它是由發達的銀粒組成的團塊，
而不是賦予粒狀外觀的單粒。谷物是一個主觀的東西。
戊印象，而其客觀方面稱為粒度..前者是由肉眼主觀決定的，
使用恒定的樣品照明或恒定的場亮度。
測定方法是相對于膠片的目的選擇的，但恒定樣品照度法*適合于X射線膠片。
另一方面，格羅爾性是物理的，是指光敏乳液的結構，
它是由物理方法客觀地決定的。粒度在重復性和客觀性上優于grai。
鎳作為衡量銀礦床分布變化的科學指標。
利用Selwyn方法進行傅里葉分析，確定了顆粒度。
Selwyn粒度G表示為微密度計測量孔徑的面積
A的平方根的乘積和給定平均密度D.Selwyn粒度的標準偏差。
Selwyn粒度但是，當某些單獨的銀顆粒的面積大于測量孔的面積A時，
該公式不會導致G的恒定值。的粒度是單位D的值比Selwyn的常數更經常地表示，
并且被稱為RMS粒度(均方根粒度)。RMS值越小，粒度越好
必須遵守工業X射線膠片所規定的標準，并考慮幾何因素
（例如，樣品對薄膜距離）對確定圖像質量的影響。
設置X射線或伽瑪射線源、盒、標本和透度計的排列。
還需要根據T進行適當的曝光方法的先前選擇。
所要檢驗的材料和樣品的形狀或部分。
例如，在檢查焊管時，*合適的選擇應該是從單一的射線照相。
方法、立體射線照相法和雙曝光（視差）法。
在工業射線照相中，為了滿足必要的圖像密度
和穿透儀確定的清晰度等要求，必須對曝光進行測定。
X射線設備需要制造商規定的預熱期，如果是伽馬輻射源，
則需要確定其CI值。當使用X射線時，就會有一種無線電攝影術。
管電流，和曝光時間）..普通曝光圖是通過沿水
平軸和曝光（MA·min）的厚度來繪制的。
或MA·sec.）或千伏電壓（。(KVP)然而，
建議根據每個案例的曝光條件繪制適當的曝光圖表，
因為曝光的結果隨X射線源的可變特性、聚焦距離、樣本材料和所需圖像。
密度。在圖18所示的情況下，從試樣的厚度確定千伏電壓，
并且在條件(mA·min)下進行曝光。)由千伏確定。
在C中在圖19所示的ASE中，相對于樣品的厚度選擇強化屏幕，
并且以適合于所選擇的屏幕類型的千伏進行曝光。
當將X光膠卷從交錯紙夾上取下時，不應對交錯紙施加不必要的壓力，
否則會留下劃痕和靜電痕跡。X光片。在曝光前將交錯紙放在工作臺上，
因為它能保護膠卷不受污垢、鐵粉、濕氣、化學物質和有機物質的影響。
她的下流事。好的，均勻的屏幕和電影之間的接觸是非常重要的。
如果他們接觸不良，圖像清晰度將受到不利影響。
特別當機箱是柔性的時，要注意屏幕和膠卷之間的良好接觸。
從真空盒式磁帶上取出膠卷時，用通過打開屏幕移除膠卷，
以避免屏幕和膠片之間的摩擦。
通過暴露于X射線、伽馬射線或光線而在X射線膠片
上產生的圖像在處理之前是不可見的，
但是當浸沒在特殊處理溶液中時，會出現可見的圖像。
該Pro處理步驟稱為開發。當獲得期望密度和對比度的圖像時，
停止顯影。然后將該薄膜浸入停止槽中,停止該動作,f顯影劑。
在停止浴之后，將所述膜浸入溶解所述敏感銀鹽的未改變部分的固定浴中。
如此處理的膜具有*圖像。%s在曝光后制作*圖像的TEPS被統稱為處理。
本節將處理手動處理，稍后將在第四章中討論自動處理。
顯影溫度和顯影時間對X線像密度和對比度有顯著影響。
必須將顯影劑保持在規定的溫度(通常為20°C/68°)。
f)在規定的時間內進行人工加工，并進行開發。
當顯影劑的溫度高于正常值時，
通過延長顯影劑獲得同樣的結果，發展時間，反之亦然。
然而，在任一種情況下，*理想的是將顯影劑的溫度保持
在18-23°C(64.4-73.4°F)的范圍內。
隨著發展的發展每次開發人員的可能會有所不同，
請務必遵守制造商給出的說明。FujiHIRenolDeveloper
的時間和溫度規格為5分鐘和20°C(68°F).
產品說明功率繼電器FUJI，TR-N3/3
